Chapter 3

第3章: トランジスタという発明 — MOSFETは電子のスイッチ

1947年12月23日、ベル研究所。 ウィリアム・ショックレー、ジョン・バーディーン、ウォルター・ブラッテンが、 ゲルマニウムの結晶に金箔を貼り付けた装置のスイッチを入れた。

スピーカーから、増幅された人間の声が流れた。

「これは … いける」

20 世紀後半のすべての発明は、この日から始まった。

3.1 真空管の時代 — 部屋ひとつ分のコンピュータ

トランジスタ以前の話を、少しだけ。

1940 年代までの電子機器は、真空管 (vacuum tube) で動いていた。 電球くらいの大きさのガラス管に、フィラメント・電極を封入した素子だ。電流を増幅したり、スイッチしたりできた。

問題は、でかい・熱い・壊れやすい・電気を食うこと。

世界初の汎用電子計算機 ENIAC(1946) は、約 17,000 本の真空管を使い、重さ 30 トン、消費電力 150kW、体育館を埋めた。 平均 2 日に 1 本のペースで真空管が切れて止まった。 これが「コンピュータ」の出発点である。

このまま行くと、コンピュータは絶対に普及しない。
誰の目にも明らかだった。 真空管に代わる 小さくて壊れない「電子のスイッチ」 が、世界中から求められていた。

3.2 トランジスタの誕生 — ベル研の3人

ベル研究所(AT&T の研究機関)は、戦後すぐ「真空管に代わるもの」を研究テーマに据えた。 チームを率いたのが理論家 ウィリアム・ショックレー。実験を担当したのが ジョン・バーディーンウォルター・ブラッテン

1947 年 12 月、3 人はゲルマニウムの結晶に 2 本の金線の先端を非常に近づけ、もう一方をベース電極にした装置を作った。これに信号を入れると ── 電流が増幅された

世界初の 点接触型トランジスタ の誕生である。 “trans-resistor”(伝達抵抗)から トランジスタ という名前が付いた。

3 人は 1956 年にノーベル物理学賞 を受賞。 ただし、ショックレーと残り 2 人の関係は最悪で、彼はベル研を去ってカリフォルニアに ショックレー半導体研究所 を作る。

そこから、ショックレーの下を飛び出した 8 人 ── 通称 「裏切り者の 8 人 (Traitorous Eight)」フェアチャイルドセミコンダクター を作り、 さらにそこから インテル、AMD、ナショナル セミコンダクター が枝分かれする。
シリコンバレーという地名は、ここから始まった

3.3 バイポーラトランジスタ — 最初の主役

ショックレーらの最初のトランジスタは、後に バイポーラ接合トランジスタ (BJT) と呼ばれるタイプに発展した。

構造はシンプルだ。n 型と p 型を npn または pnp の 3 層サンドイッチにする。

端子役割
エミッタ (Emitter)キャリアを放出する側
ベース (Base)真ん中の薄い層。ここに少しの電流を流すと…
コレクタ (Collector)エミッタからの大きな電流を受け取る

ベースに微弱な電流を流すと、コレクタに大電流が流れる。 つまり「小さな入力で大きな出力を制御する」── これが増幅だ。

1960〜70 年代のラジオ、テレビ、初期のコンピュータは、ほぼ BJT で動いていた。 ただし、BJT には弱点があった ── 常にベース電流を流し続ける必要があり、電気を食う。 集積化が進み、何百万個ものトランジスタを並べたい時代になると、これは致命的だった。

3.4 MOSFET — 現代の絶対王者

そこで主役を奪ったのが、MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor) ── 金属-酸化膜-半導体 電界効果トランジスタ。

長い名前だが、構造を一度見ればすぐ覚えられる。

n+ ソースn+ ドレインゲート(金属)← 酸化膜(絶縁)p 型シリコン基板ゲートに電圧 → 酸化膜の真下に「電子の通り道(チャネル)」ができる → ソース→ドレインに電流
図 3.1 — n チャネル MOSFET の構造(断面)。

3 つの端子 ── ソース (S)、ドレイン (D)、ゲート (G)。 そして p 型基板の上に薄い 酸化膜 (SiO₂) を挟んで、その上に ゲート電極 を載せる。

ゲートは酸化膜で絶縁されているため、電流は流れない。電圧だけが効く。

3.5 ゲートに電圧をかけると道ができる

n チャネル MOSFET の動作を、比喩で説明する。

MOSFET は 「ゲート電圧で道を作ったり消したりするスイッチ」 である。

  • ゲートに電圧をかけない → 道がない → OFF
  • ゲートに電圧をかける → 道ができる → ON

電流ではなく 電圧で制御 するため、ゲートには電気が流れない(理想的には)。
だから 待機中はほとんど電気を食わない。これが BJT との決定的な違いである。

3.6 ダムのゲートに例えると

別の比喩で言い直そう。MOSFET の動作はダムにそっくりだ。

水門を開けば水が流れ、閉じれば流れない。 重要なのは、水門の開閉そのものはほとんどエネルギーを使わないことだ。

私は MOSFET を最初に学んだとき、「電流で制御するのが当たり前」と思っていたから、「電圧だけで制御できる」のがピンとこなかった。 ゲートには電気が流れない、けれど電圧で道ができる ── ここが MOSFET の真の発明である。

3.7 n チャネルと p チャネル

MOSFET には対になる 2 種類がある。

種類基板多数キャリアON条件
n チャネル MOSFET (nMOS)p 型電子ゲートにの電圧
p チャネル MOSFET (pMOS)n 型ホールゲートにの電圧

n と p、ペアで存在することがポイントだ。 次章で見るとおり、この n と p をペアで使う という発想こそが、現代 CMOS の心臓になる。

3.8 サイズの話 ── 1個のMOSFETはどれくらい小さいか

ニュースで「2nm プロセス」「3nm プロセス」と聞く。 ここで言う「nm」は、MOSFET の特定の寸法(昔はゲート長、今はマーケティング名)を指す。

直近の量産プロセス(2024〜25 年時点の TSMC)では、1 個のトランジスタを構成する要素はおおよそ:

「2nm」というのは、文字どおりの 2 ナノメートルの構造があるという意味ではなく、プロセス世代の名前である。詳しくは第 11 章で扱う。

イメージとして覚えておくと良い数字は:

つまり、現代の MOSFET は 可視光の波長より遥かに小さい構造 を、原子十数個分の厚みで作っている。

3.9 MOSFET 1 個だけでは何もできない、しかし …

1 個の MOSFET は、ただのスイッチに過ぎない。 家のスイッチが 1 個あっても部屋しか照らせないように。

ところが、これを 何億個も並べて配線する と、突然「計算する機械」になる。 それが集積回路 (IC) であり、次章のテーマである。

スマホの SoC には、約 200 億〜500 億個の MOSFET が入っている。 あなたが朝起きてスマホでニュースを見るとき、そのチップの中では数百億個の MOSFET が、毎秒数十億回ずつ ON/OFF を繰り返している。

半導体産業の歴史は、究極的にはひとつの問いの答えである ──
「どうやってこの MOSFET を、もっと小さく、もっと多く、もっと正確に並べるか?」

製造編(第10〜12章)で見るのは、まさにこの問いへの 80 年分の回答である。

3.10 この章の振り返り

この章で読めるようになるニュース

次章では、MOSFET を n と p のペアで使う 発明 ── CMOS に進む。 そして、それを 何十億個も並べる 集積回路の世界へと足を踏み入れる。